EXF鍍層測厚儀原子的特性由原子序來決定，亦即質(zhì)子的數(shù)目或軌道中電子的數(shù)目，即如圖所示特定的X-射線能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會造成不同的能量差。

 

　　覆層厚度的測量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測量法及渦流測量法等。這些方法中前五種是有損檢測，測量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗(yàn)。

 

　　EXF鍍層測厚儀采用X熒光分析技術(shù)，可以測定各種金屬鍍層的厚度，包括單層、雙層、多層及合金鍍層等，可以進(jìn)行電鍍液的成分濃度測定。

 

　　EXF鍍層測厚儀是能譜分析方法，屬于物理分析方法。樣品在受到X射線照射時，其中所含鍍層或基底材料元素的原子受到激發(fā)后會發(fā)射出各自的特征X射線，不同的元素有不同的特征X射線；探測器探測到這些特征X射線后，將其光信號轉(zhuǎn)變?yōu)槟M電信號；經(jīng)過模擬數(shù)字變換器將模擬電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號并送入計算機(jī)進(jìn)行處理；計算機(jī)*的特殊應(yīng)用軟件根據(jù)獲取的譜峰信息，通過數(shù)據(jù)處理測定出被測鍍層樣品中所含元素的種類及各元素的鍍層厚度。

 

　　EXF鍍層測厚儀能檢測出常見金屬鍍層厚度，無需樣品預(yù)處理；分析時間短，僅為數(shù)十秒，即可分析出各金屬鍍層的厚度；分析測量動態(tài)范圍寬，可從0.005μm到60μm。